第291章 半导体提议，光刻厂！（3/7）
所以没必要等几年后研发出光刻机，再推进光刻机研发，这样太慢了。
相反直接立项，两代产品，两代技术，一同研发！
如此魄力，王逸都很佩服。
索性道：“光刻机的确困难，需要的上下游产业链太多，咱们差得很远。但换个思路，如果光刻机不好做，做一个光刻厂……会不会容易一点？”
“光刻厂？”秦主任眼睛一亮：“你详细说一说。”
王逸略微思忖，刚想开口，却被秦主任直接打断：
“王董，你稍等下，这种严密的技术性问题，我也不在行，可否让我录个视频，回去给专家院士看？”
“没问题。”王逸摆了摆手。
“谢谢！”秦主任和蔼一笑，当即拿出星逸xhone 1，打开视频录制：“好了，王董，请继续说。”
王逸点点头：“众所周知，阿斯麦的光刻机之所以厉害，能做到5纳米以下的芯片制程，就是因为它能制造5纳米的极紫外光源，这种光源是未来5纳米以下制程芯片的关键。”
“而光刻机的深紫外光源，最多能制造10纳米芯片。通过多重曝光技术，才能量产7纳米，5纳米。甚至5纳米的良品率都不高，成本却不低。至于5纳米以上的4纳米，3纳米，那更不现实，只能靠光刻机的极紫外光源。”
“同样，我们本质上需要的不是光刻机，而是5纳米的极紫外光源！”
“光刻机我们目前造不了，未来难度也很大。但是我们反其道而行，通过其他方式，实现极紫外光源，也能制造出4纳米，3纳米，甚至2纳米，1纳米芯片。”
“比如我之前提到的光刻厂！”王逸顿了顿，继续道：
“建一个光刻厂，通过粒子对撞，实现极紫外光源，然后通过光刻厂的模式，实现光刻机的效果。”
……
“当然，我并非半导体专业人士，以上内容只是基于我不成熟的想法，随口一说。”
“能不能实现，我就不知道了。若是不能实现，还请各位大佬海涵。”
至于能不能实现，他也不知道，但理论上应该可以。
前世华清大学的光刻机，就是要走这个路线，完全不同于阿斯麦的技术路线。
若是真能实现，直接从根源上避开了阿斯麦的专利。
毕竟极紫外光源的产生方式都不一样，也就没有侵犯专利这一说了。
国产技术突破的难度，不只是要做出同样的产品和等效的技术，还要避开西方的专利壁垒，采取完全不同的技术路线。
这就难上加难了。
但即便如此，前世依旧把工业皇冠上的明珠，差点全部摘秃噜皮。
秦主任笑着伸出手：“谢谢，你这些观点很重要，我这就上报。无论如何，都很感谢。”
“主任言重了，若是我说得不对，你们就当我瞎说，海涵。”
“呵呵，那不会。科学的探索本就是知无不言，言无不尽。何况是这么别出心裁的建议，意义重大！”
王逸摆了摆手：“不成熟的想法罢了，希望有点参考价值。光刻机这个东西难，光刻胶也难，都得看国家机器了。”
秦主任点点头：“放心，光刻胶也是官方大力扶持的领域，必须突破！”
王逸松了口气，若是这些难题官方都逐步搞定，那就稳了。
又交流了一番，王逸离开管委会。
而秦主任则直奔某机要之地，汇报王逸的想法。
不管成不成的，都是一个新的思路，让院士专家鉴定一下也好。
不成，可以当做一个思路，有借鉴意义。
若是成了，那就再好不过，弯道超车都有
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